VLSI製造における測定、検査および工程管理

通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、VLSI（大規模集積回路）製造における測定、検査および工程管理技術の市場について調査分析を行い、まとめた報告書 "Metrology, Inspection, and Process Control in VLSI Manufacturing" を発行いたしました。

当報告書では、リソグラフィ、ウエハ検査、薄膜測定をはじめとする様々な測定技術の市場に関する動向分析や今後の予測などについて、概略下記の構成でまとめております。

第1章　イントロダクション

第2章　エグゼクティブサマリー

第3章　測定/検査技術

• 概要
• イメージング技術
  • SEM（走査電子顕微鏡）
  • TEM（透過電子顕微鏡）
• 走査プローブ顕微鏡
  • AFM（原子間力顕微鏡）
  • STM（走査トンネル顕微鏡）
  • SPM（走査プローブ顕微鏡）
  • AFM の種類
  • SSPM（表面電位顕微鏡）
• 光技術
  • 光波散乱計測
  • TXRF（全反射蛍光X線分析）
  • EDX（エネルギー分散型蛍光X線分析）
  • SIMS（二次イオン質量分析）
  • オージェ電子分光分析法
  • FIB（集束イオンビーム）
  • XRR（X 線反射率）
  • XPS（X線光電子分光法）
  • RBS（ラザフォード後方散乱分析法）
  • 光音響測定
  • FTIR（フーリエ変換赤外分光光度計）
  • IDS 10000
  • TIVA
• フィルムの厚さと粗さ
  • 表面検査技術
  • 次元技術
  • Stylus Profilometer

第4章　欠陥点検/ウエハ検査

• 定義
• 欠陥の解析
• パターン化されたウエハ検査
• パターン化されていないウエハ検査
• マクロ-欠陥検査

第5章　薄膜測定

• 概要
• 金属製薄膜測定
• 非金属製薄膜測定
• 基板測定

第6章　リソグラフィ測定

• オーバーレイ
• CD
• マスク（レチクル）測定/検査

第7章　市場予測

• 概要
• 市場予測の仮定
• 市場予測
  • プロセスコントロール市場
  • リソグラフィ測定市場
  • ウエハ検査/欠陥点検市場
  • 薄膜測定市場
  • その他プロセスコントロールシステム市場

第8章　統合測定/In-situ測定/検査動向

• 概要
• In-situ（現位置）測定
• 統合測定
  • 利点
  • 限界

第9章　主な影響因子

• 300mmウエハ
• 銅の測定
• 低誘電率絶縁膜
• CMP（化学的機械研磨）
• イオン注入