VLSI製造におけるクリーンルームと汚染防止

通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、VLSI 製造におけるクリーンルームの設計および汚染防止対策について調査・分析を行い、まとめた報告書“Cleanrooms and Contamination Control in VLSI Manufacturing”を発行いたしました。

当報告書では、クリーンルームの設計、世界における半導体ファブの概要とクリーンルーム面積、液体薬品や脱イオン水、ガスといった各種の汚染課題の概要、ユーザーおよびサプライヤの課題、今後の予測などについて、概略下記の構成でまとめております。

第 1 章 イントロダクション

第 2 章 エグゼクティブサマリー

第 3 章 クリーンルームの設計

• クリーンルームの種類
• ミニエンバイロメント
  • 200mm
  • 300mm
• エアフロー・フィルタリング
• 静電放電
• ASIC 機器の影響
• VLSI 機器の影響
• ファクトリーオートメーションと300mm ウエハーの影響

第 4 章 世界の半導体ファブ

• 北米
• 欧州
• 日本
• 韓国
• 台湾
• その他各ファブに関する項目
  • 企業名
  • 住所
  • 製造ウエハーサイズ
  • 最小機能サイズ
  • 処理技術
  • 主要製品
  • 従業員数
  • プラント面積
  • クリーンルーム面積

第 5 章 汚染課題

• 液体薬品
  • 浄化方法
  • 粒子状物質
  • バルク流通またはボトル
  • パイピングシステム構築
• ガス
  • 技術課題
  • 要件
• 脱イオン水
  • 浄化に関する仕様
  • 純度測定技術
  • ろ過と限外ろ過
  • パイピングシステム構築
  • 脱イオン水システムコスト
• 処理機器
  • 検知方法
  • 除去技術

第 6 章 市場予測

• 市場予測の仮定
• クリーンルームの建設
• ウェットステーションとスプレープロセッサ
• 液体および気体フィルタに関する予測
• ガス精製システム市場

第 7 章 ユーザーの戦略的課題

• クリーンルーム人員
• ユーザー要件
• 規格の必要性

第 8 章 サプライヤの戦略的課題

• 処理機器の清浄度
• サプライヤの戦略
• サプライヤのビジネスチャンス