通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、サブ 100nm リソグラフィ技術の市場および戦略的課題に関する調査・分析を行い、まとめた報告書 “Sub 100-nm Lithography: Market Analysis and Strategic Issues”を発行いたしました。
当報告書では、光学システム、X線システム、電子ビームやイオンビームシステムといった各種リソグラフィ技術の動向と課題、サプライヤの戦略や今後の予測などについて、概略下記の構成でまとめております。
第 1 章 イントロダクション
第 2 章 エグゼクティブサマリー
第 3 章 リソグラフィの課題と動向
- 光学システム
- 走査式プロジェクション・アライナー
- ステップ＆リピート・アライナー
- 248nm DUV レジスト
- 193nm DUV レジスト
- Mix-and-Match
- 157nm DUV とレジスト
- EUV
- X 線システム
- 電子ビームシステム
- イオンビームシステム
- 新技術
- Mulith Reference Distribution Aerial Image Formation
- ホログラム
- X線レーザー
- 原子リソグラフィ
- マイクロレンズ
- ナノインプリントリソグラフィ
- 液浸リソグラフィ
- リソグラフィの所有コスト分析
- 概要
- 所有コストモデル
- 所有コスト計算の結果
- 個別の概算コスト
- 総論
第 4 章 サプライヤの戦略
- リソグラフィに対するニーズの定義
- ベンダーのベンチマーキング
- 価格
- ベンダーの取り組みとその姿勢
- ベンダーの能力
- システム性能
- 機器評価中のベンダーフィードバック
- 機器生産中のベンダーフィードバック
- 競争環境
- クラス1クリーンルーム用機器
- 未来型工場向け機器
- 市場機会
第 5 章 市場予測
電子部品/半導体
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