マスク製造、欠陥検査およびリペア市場の分析と課題

当報告書では、マスク製造、欠陥検査およびリペア装置の技術課題、ベンダーの戦略と機会、市場予測などについて、概略下記の構成でまとめております。

第1章　イントロダクション

第2章　エグゼクティブサマリー

• 主な課題のサマリー
• 市場機会のサマリー

第3章　技術課題

• マスク製造
  • マスクブランクス
  • 完成マスク
• マスク製造装置
  • 電子ビームシステム
  • レーザーパターンジェネレータ
• マスク検査
  • マスク欠陥
• マスクリペア
  • レーザーリペア
  • 集束イオンビーム（FIB）
  • その他のリペア方法

第4章　ユーザー - ベンダー戦略

• ユーザーニーズの確立
  • マスク製造
  • サブミクロンマスク製造
  • マスク検査装置
  • マスクリペアレーザー vs. FIB
  • PSM（位相シフトマスク）
  • OPC（光学近接効果補正）
  • NGL技術の課題
• 競合ベンダーのビジネスチャンス

第5章　市場予測

• 市場影響因子
  • 概要
  • ICプロセッシング技術の動向
  • マスクとレチクルに関する要件
  • ターンアラウンドタイム向上装置
  • 電子ビームおよびX線直描法の影響
• 市場予測の前提条件
• マスクの製造、検査およびリペア
• 完成マスク市場
  • レチクル/マスク装置

図表