通信や集積回路、コンピューターの工業分野の市場調査で世界的に高い評価を得ております The Information Network（本社：ペンシルバニア州）では、マスクの製造、欠陥検査およびリペア技術および製品市場に関する詳細な分析を行った報告書 “Mask Making, Inspection, & Repair: Market Analysis and Strategic Issues”を発行いたしました。
当報告書では、マスク製造、欠陥検査およびリペア装置の技術課題、ベンダーの戦略と機会、2006年までの市場予測などについて、概略下記の構成でまとめております。
第 1 章 イントロダクション
第 2 章 エグゼクティブサマリー
第 3 章 技術課題
- マスク製造
- マスク製造機器
- マスク欠陥検査
- マスクリペア
- レーザーリペア
- 集束イオンビーム（FIB）
- その他のリペア方法
第 4 章 ユーザー - ベンダー戦略
- ユーザーニーズの確立
- マスク製造
- サブミクロンマスク製造
- マスク欠陥検査装置
- マスクリペア
- PSM（位相シフトマスク）
- OPC（光学近接効果補正）
- NGL 技術の課題
- 競合ベンダーのビジネスチャンス
第 5 章 市場予測（2001 年〜 2006 年）
- 市場影響因子
- 概要
- IC プロセッシング技術の動向
- マスクとレチクルに関する要件
- ターンアラウンドタイム向上装置
- 電子ビームおよびX線直描法の影響
- 市場予測の前提条件
- マスクの製造、検査およびリペア
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