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【 英文市場調査報告書 】

IC製造用機器と材料の世界市場

The Global Market for Equipment and Materials for IC Manufacturing

商品コード : 6131 The Information Network
出版日 : 2009/06
発行 : The Information Network
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概要 原文目次
※この商品は英文にてご提供いたします。

当報告書では、IC製造に関連する各種機器および材料市場の動向、課題や今後の展望などについて、概略下記の構成でまとめております。

第1章 イントロダクション

第2章 低誘電体層間絶縁体の課題と動向

  • イントロダクション
  • 理想的な誘電体
  • 低誘電体層間絶縁体の種類
    • FSG
    • HSQ
    • ナノポーラスシリカ
    • スピンオン・ポリマー
    • BCB
    • Flowfill
    • CVD
    • AF4
    • PTFE
  • サマリー
    • 統合における課題
    • プロセッシングの課題

第3章 リソグラフィの課題と動向

  • 光学システム
  • X線システム
  • 電子ビームシステム
  • イオンビームシステム
  • ナノ・インプリントリソグラフィ
  • 新技術
  • リソグラフィの所有コストにおける革新
  • 結論

第4章CMPの課題と動向

  • 平坦化の必要性
    • リソグラフィ
    • 蒸着
    • エッチング
  • 用途
  • 平坦化技術
    • 局所平坦化
    • 全面平坦化
  • CMP

第5章 FA(ファクトリーオートメーション)課題と動向

  • 自動化の要素
  • フレキシブルオートメーション
  • 信頼性
  • ツールの課題と動向

第6章 薄膜蒸着の課題と動向

  • PVD
  • CVD技術

第7章 プラズマエッチングの課題と動向

  • プロセッシングの課題
  • プラズマストリッピング

第8章 クラスターツールの課題と動向

  • 定義
  • デバイスの技術と統合プロセッシング
  • 主要機能ユニット
  • クラスターツールコミュニケーション
  • 真空システム設計
  • 動向

第9章 薬品および材料の課題と動向

  • 液体薬品
  • 純度要件
  • 薬品管理
  • 気体
  • 薬品管理
  • スパッタリングと蒸発材料

第10章 汚染の課題と動向

  • 液体薬品
  • 気体
  • 脱イオン水
  • 処理機器

第11章 測定

  • 欠陥検査/ウエハー検査
  • 薄膜測定
  • リソグラフィ測定

第12章 市場予測

  • 市場影響因子
  • 市場予測の前提条件
  • Low-K
  • リソグラフィ
  • CMP
  • FA
  • 薄膜蒸着
  • プラズマエッチング
  • クラスターツール
  • 薬品および材料
  • クリーンルームおよび汚染
  • 測定
概要 原文目次
※この商品は英文にてご提供いたします。
【 英文市場調査報告書 】
IC製造用機器と材料の世界市場
The Global Market for Equipment and Materials for IC Manufacturing
出版日 : 2009/06
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商品コード : 6131
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