インフォショップ ホームへ 株式会社グローバルインフォメーション
サイトマップ
その他のカテゴリ

月刊カタログ配信中

MEMS情報サイト MEMSinfo - MEMS市場情報

Printed Electronics情報サイト Printed-Electronics.jp - Printed Electronics市場情報

電子ペーパーの市場および技術予測

IDTechEx主催国際会議 Printed Electronics Asia 2008 公式サイト
English Korean Chinese
【 英文市場調査報告書 】

世界のフォトマスク市場

Photomask Characterization Summary

商品コード : 63954 SEMI
出版日: 2008/03
発行 : SEMI
電話でのお問い合わせ
価格情報
概要 原文目次
※この商品は英文にてご提供いたします。

2007年における世界のフォトマスク市場は29億8,000万米ドルの規模と推計されており、2010年には38億9,000万米ドルの規模に達すると予測されています。

当報告書では、世界の主要7地域(北米・日本・欧州・台湾・韓国・中国・その他)におけるフォトマスク市場の主な市場動向、市場背景、技術動向、45nmリソグラフィの導入動向、市場シェア、2010年までの市場予測などをまとめ、概略下記の構成でお届けいたします。

調査手法・調査範囲

市場背景

技術動向

45nmを超えて

市場動向

市場・市場見通し

サマリー

図表

  • 2007年のウエハファブリケーション材料市場
  • フォトマスク産業の統合:1986年〜
  • 市場シェア動向
  • ウエハファブリケーション能力:サイズ別
  • リソグラフィ関連の特徴:製品別
  • フォトマスク市場予測
  • フォトマスクサプライヤーリスト
  • 45nmリソグラフィ技術の導入・タイミング
  • フォトマスクサプライヤーの戦略的関係性
  • 地域別フォトマスク市場:2003-2010年
概要 原文目次
※この商品は英文にてご提供いたします。
【 英文市場調査報告書 】
世界のフォトマスク市場
Photomask Characterization Summary
出版日: 2008/03
電話でのお問い合わせ
この商品について問い合わせる
この商品のサンプル(抜粋)を依頼する
この商品の閲覧を希望する
価格

※ドル建て価格の商品のお支払いは、銀行レート (TTS: 107.71) 換算による円建てのご請求書にて承ります。

US $ 895 換算 -> ¥ 96,400 (税抜) PDF by E-mail (Single User License)
US $ 2,250 換算 -> ¥ 242,347 (税抜) PDF by E-mail (Multi User License)
商品コード : 63954