2007年における世界のフォトマスク市場は29億8,000万米ドルの規模と推計されており、2010年には38億9,000万米ドルの規模に達すると予測されています。
当報告書では、世界の主要7地域(北米・日本・欧州・台湾・韓国・中国・その他)におけるフォトマスク市場の主な市場動向、市場背景、技術動向、45nmリソグラフィの導入動向、市場シェア、2010年までの市場予測などをまとめ、概略下記の構成でお届けいたします。
調査手法・調査範囲
市場背景
技術動向
45nmを超えて
市場動向
市場・市場見通し
サマリー
図表
- 2007年のウエハファブリケーション材料市場
- フォトマスク産業の統合:1986年〜
- 市場シェア動向
- ウエハファブリケーション能力:サイズ別
- リソグラフィ関連の特徴:製品別
- フォトマスク市場予測
- フォトマスクサプライヤーリスト
- 45nmリソグラフィ技術の導入・タイミング
- フォトマスクサプライヤーの戦略的関係性
- 地域別フォトマスク市場:2003-2010年