SOI技術の新たな動向

多様な最先端産業の戦略的調査を専門とする米国の調査会社 Technical Insights, Inc. (本社：テキサス州) では、SOI 技術の新たな動向を調査分析し、体系的にまとめた報告書 "Emerging Trends in SOI Technology" を発行いたしました。

当報告書では、CMOS-SOI、SOI装置、SOI-MEMS、キャパシターレス・メモリ、MOEMS、III-IV族化合物半導体などのSOI技術を調査、市場の牽引要因、課題、障害、将来予測などを含め概略下記の構成で取り上げております。

第1章 エグゼクティブサマリー

• 調査範囲および調査方法
• イントロダクションおよび主要発見事項

第2章 SOI技術と用途

• SOI技術
  • なぜSOIが必要なのか？
  • SOIの説明
  • 薄膜SOIウエハの種類
  • 薄膜SOIウエハ製作に利用される技術
• 利用分野
  • 現在の利用分野
  • 将来の利用分野

第3章 最近の開発

• 企業における開発
• 学術分野における開発

第4章 技術採用の条件と将来予測

• 推進要因
  • AMD社の成功
  • SOIウエハのコスト改善
  • メモリデバイスにおけるスケーリング/ソフトエラー・ラジエーション問題
  • 歪シリコンの奨め
  • III-IV族化合物半導体技術
  • SOI MEMSアプリケーションとナノデバイス
• 制約要因と課題
  • フローティングボディ
  • CMOSプロセス
  • SOIウエハの高コストと供給問題
• SOIの将来
  • 新しいデバイス
  • 歪技術
  • SOI MEMS

第5章 主要な特許とコンタクト先

• コンタクト先リスト
• 特許

第6章 参考統計データ