歪シリコン技術の世界的発展

当報告書では、歪シリコン技術の世界的発展の分析とともに、技術採択に影響を与える因子、応用シナリオ、主要な開発などについて、概略下記の構成で取り上げております。

第1章 エグゼクティブサマリー

• 調査範囲と調査方法
  • 調査範囲
  • 調査方法
• 歪シリコン技術の概要と主な研究成果
  • 歪シリコン技術の概要
  • 主な研究成果

第2章 歪シリコン−技術評価と応用

• 技術評価
  • 歪シリコン技術の発展
  • 歪シリコンへのアプローチ
• 技術開発シナリオ
  • SOIと歪SOI
  • 応用シナリオ

第3章 技術導入因子の分析

• 技術導入に影響を与える要因−促進因子と阻害因子
  • 成長促進因子
  • 産業の課題
• 利益と制限−技術ニーズ分析
  • 利益と制限
  • 技術ニーズ分析

第4章 シナリオとインパクト解析

• シナリオ分析
  • 産業動向−変化するシナリオと発展への取り組み
  • IP／特許分析
• インパクト解析
  • 勝因と技術のギャップ
  • アナリスト分析−歪シリコン技術の発展

第5章 変化するシナリオ−シリコンセクターにおける主要な開発

• 歪シリコン−設計と製造の発展−世界
  • 歪シリコンプロセス制御システム（英国）
  • SOI層転写の新技術（米国）
  • 歪シリコンデバイス設計用EDAツール（英国）
• 歪シリコン−デバイスレベルの発展−世界
  • SOI歪測定用ナノビーム電子解析技術（日本）
  • 歪シリコンを用いた電気光学変調器（デンマーク）
  • 歪半導体薄膜（米国）
  • 薄膜欠陥検出用X線トポグラフィー（米国）
  • 次世代MOSFET用歪化合物半導体技術（米国）

第6章 主要特許と主要企業・研究機関

• 歪シリコンセクターの主要特許
  • 北米の特許
  • その他の地域の特許
• 主要企業・研究機関
  • 企業
  • 研究機関

第7章 意思決定支援データベース